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 在庫は時期によりまして 変動することがございます |
書籍情報
本書は著者の23年におよぶ大学での講義を基に,電気・電子系,材料・化学系のどちらの読者にも共通して理解できるようにした.また式の導入,導出は最小限にとどめ,簡潔な説明を心掛けている. |
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セラミックス基礎講座6 |
結晶と電子
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A5/280頁 定価(本体3200円+税) 978-4-7536-5311-9
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河村 力(理学博士) 著 |
目 次 |
I 電子物性の基礎 CHAP.1 結晶学的基礎 結晶格子/ミラー指数/逆格子/点群/空間群/結晶の異方性とテンソル CHAP.2 電子の基本的物性 原子内の電子配置と化学結合/バンド構造と結晶構造/フェルミ・レベル/逆格子空間と結晶運動量空間/ブリルアン領域とブラッグの回折条件/エネルギー・ギャップと結晶構造因子/エネルギー・ギャップとブロッホ関数 CHAP.3 半導体デバイスの基礎 半導体の定義/基本的材料定数/キャリアの移動度/有効質量/エネルギー面/ダイオード/トランジスタ/論理回路/記憶回路 II 半導体結晶と半導体デバイス CHAP.4 半導体多結晶の精製と半導体単結晶の育成 単結晶化の命題/化学的精製法/物理的精製法/ZM法/FZ法/CZ法/GeからSiへの移行/HB法/LEC法/GaAsウエーハ CHAP.5 半導体薄膜の形成 合金接合法/拡散法/拡散転位の発生と歪み補償/微細加工技術/イオン注入法/エピタキシャル成長法/SiのVPEの基本原理/SiのVPEの現状/SiのMBE/GaAsのLPE/GaAsのVPE/GaAsのMBE/ALE CHAP.6 化合物半導体デバイス GaAs IC概観/高速デバイスの基礎と実際/光デバイスの基礎/レーザ・ダイオードの基本特性/レーザ・ダイオードの実際 CHAP.7 半導体における結晶の評価と機能 半導体デバイスと結晶欠陥制御/結晶の加工と欠陥・不純物の評価/電気的評価法/半導体デバイスにおける結晶の機能
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